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產品展示
  • ALD-1200X-4雙通道ALD管式爐系統
    ALD-1200X-4雙通道ALD管式爐系統

    雙通道ALD管式爐系統是一款4英寸管式爐系統,包含用于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精密液體氣相發生器以及用于CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道質子流量計控制系統。該管式爐系統簡潔的設計使得更多的科研院所能夠在可負擔的低成本情況下實現ALD工藝實驗。

    型號:ALD-1200X-4
    更新日期:2021-03-09
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  • OTF-1200X-S-HPCVD坩堝(樣品臺)可移動型1200°C管
    OTF-1200X-S-HPCVD坩堝(樣品臺)可移動型1200°C管

    OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內移動(靠步進電機控制)的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設備工作溫度為1200℃。設備特點∶坩堝通過一步進電機控制爐管,按照設定程序移動,同時坩堝后端安裝一熱電偶(隨坩堝儀器移動),可實時監測樣品的溫度,意味著可通過移動坩堝的位置,在爐體中準確找到實驗所需要的溫度,使得實驗準確度更高,重復性更強。此款設備可用于多種實驗

    型號:OTF-1200X-S-HPCVD
    更新日期:2021-03-09
    面議
  • OTF-1200X-50-II-P帶有預熱系統的滑動PECVD
    OTF-1200X-50-II-P帶有預熱系統的滑動PECVD

    OTF-1200X-50-I-4CV-PE-MSL是一款雙溫區的PE-CVD管式爐系統,組成部分為500W的射頻發生器、滑動速度可控的雙溫區滑軌爐,預熱爐(作用為使固體原料蒸發)和德國進口的無油泵。此款PE-CVD對于生長納米線或用CVD,方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。

    型號:OTF-1200X-50-II-P
    更新日期:2021-03-09
    面議
  • OTF-1200X-80-III-F3LV1200°C三溫區三通道混氣CVD系統
    OTF-1200X-80-III-F3LV1200°C三溫區三通道混氣CVD系統

    1200°C三溫區三通道混氣CVD系統是一款CE認證的三溫區管式爐CVD系統,其管徑為80mm,采用機械泵,它是由管式爐,三路浮子流量供氣系統組成,其真空度可達到10-2torr。

    型號:OTF-1200X-80-III-F3LV
    更新日期:2021-05-07
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  • OTF-1200X-PESDFG-5雙爐體滑動PECVD系統、循環手套
    OTF-1200X-PESDFG-5雙爐體滑動PECVD系統、循環手套

    雙爐體滑動PECVD系統&循環手套是一款雙爐體滑動的PECVD系統,并目連接有循環手套箱。此款設備中石英爐管與一循環手套箱相連接,允許客戶用CVD方法把樣品制作好以后,直接把樣品移入到氣氛保護環境下的手套箱中。爐體采用滑動式,可在室驗中對樣品進行快速加熱和快速冷卻。此款儀器特別適合新—代納米材料和二維晶體材料的探索研究。

    型號:OTF-1200X-PESDFG-5
    更新日期:2021-03-30
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